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          厭氧活性污泥法印染廢水調(diào)試技術

          時間 : 2021-10-22 13:54:45 閱讀 : 117

          印染廢水采用A/O活性污泥法調(diào)試技術

          紡織印染廢水的污染物主要是紡織纖維上的污染物,如棉絨、鹽、油脂,以及加工過程中添加的各種漿料、染料、表面活性劑、添加劑、堿等。采用的主要工藝是:“格柵調(diào)節(jié)池厭氧池好氧池沉淀池消毒池”。同時接種、培養(yǎng)、馴化調(diào)試,可在一個月內(nèi)成功培養(yǎng)出良好的活性污泥,三個月后達到驗收標準。

          ⑴將整個調(diào)試過程分為兩個階段:

          pH作為z基本的污水指標肯定會成為供需熱點,這對于E-1312 pH電極,S400-RT33 pH電極等廣大廠家來說是一個巨大的利益。美國BroadleyJames作為美國BroadleyJamesE-1312的老牌制造商,必將為中國的環(huán)境保護帶來可觀的經(jīng)濟效益。我們生產(chǎn)的pH電極經(jīng)久耐用,質量可靠,檢測準確。廣泛應用于各級環(huán)保污水監(jiān)測及污水處理過程中。

          *階段:印染廢水的成分非常復雜,沒有兩種廢水完全相同。雖然我們接種活性污泥類似于廢水處理站,但接種微生物細胞中的各種酶系統(tǒng)仍然需要適應新廢水的過程。微生物適應期過后,細胞開始分裂,微生物開始增殖,微生物細胞按幾何倍數(shù)增加。細菌旺盛增殖后,細菌大量繁殖,廢水中的營養(yǎng)物質大量消耗,營養(yǎng)物質逐漸成為細菌增殖的限制因素。當曝氣池中殘留的有機污染物(BOD5)較低,有機物與細菌的比例(F/M)較低時,可以很好地形成活性污泥。因此,在調(diào)試階段,采用間歇運行,接種占池容量15%的印染廢水廠活性污泥,悶曝氣一天后,在調(diào)節(jié)池水溫控制在42℃,酸堿度為6 ~ 10的條件下,間歇運行進水和曝氣,日進水為設計總量的40%,曝氣量為正常運行量的25%。印染廢水生物降解性低,廢水中的營養(yǎng)物質不足以維持活性污泥微生物的繁殖和生長。每天向厭氧池和好氧池中添加碳源(用量:厭氧池和好氧池中BOD5增加200毫克/升)。氮和磷的用量:厭氧池按照bod5: n: p=300: 5: 1的比例計量,好氧池按照bod5: n: p=100: 5: 1的比例計量。間歇運行時,沉淀池中的污泥量較少,所有污泥都回流至好氧池。間歇運行20天后,好氧池中出現(xiàn)沉淀良好的活性污泥絮體。污泥濃度達到1000毫克/升。第二階段:在活性污泥處理系統(tǒng)中,從廢水中去除有機污染物的過程的實質是有機污染物被活性污泥微生物吸收、代謝和利用作為營養(yǎng)物的過程。這就是所謂的“活性污泥反應”過程。該過程的結果是廢水被凈化,微生物獲得能量合成新細胞,活性污泥增加。間歇運行后,具有良好沉淀性能的活性污泥絮體的形成和活性污泥微生物的增加為生化系統(tǒng)的連續(xù)運行創(chuàng)造了條件。開始時,每天總處理量的50%被連續(xù)注入水中。在連續(xù)運行過程中,污泥的生長主要受污泥負荷的影響。氟/米過低,活性污泥微生物因缺乏營養(yǎng)而絮凝老化,不利于活性污泥的生長。如果空燃比過高,膠體將分解成游離細菌,這也不利于活性污泥的生長。因此,控制好氧池內(nèi)的微生物數(shù)量非常重要。我們將好氧池中的氟/米控制在400毫克/磅OD5/毫克/毫升固態(tài)硬盤

          ⑵調(diào)試中遇到的問題及解決方法

          ①污泥膨脹:污泥膨脹一般表現(xiàn)在兩個方面: ,好氧池的污泥負荷相對較低,絲狀細菌的比表面積大于膠束。在營養(yǎng)物質受到限制和控制的情況下,比表面積大的絲狀細菌獲得底物的能力強于膠束。結果,曝氣池中絲狀細菌的生長占優(yōu)勢,導致污泥膨脹。解決方案:適當增加水的攝入量,減少好氧池中的污泥量,并向好氧池中添加更多的碳、氮和磷。其次,好氧池污泥負荷高,容易造成好氧池缺氧。缺氧條件下,有利于絲狀菌的優(yōu)勢生長,導致污泥膨脹。解決方案:增加好氧池的污泥濃度和曝氣量,適當減少進水。

          ②沉淀池中漂浮的大塊污泥:沉淀池中漂浮的大塊污泥,鐵銹色淺,無異味,氣泡小,通過分析污泥脫氮得到。解決方案:提高回流比,縮短污泥齡,增加污泥負荷,排放更多污泥。

          標簽 :
          標題:厭氧活性污泥法印染廢水調(diào)試技術
          網(wǎng)址:http://www.webmerchantservices.com/a/1068.html
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